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DF/PSR chamber cleaner
AC – 910은 Resist Developing 및 Stripping 장비의 Cleaning을 위해 개발된 고농축Cleaner로 장비 내에 고착된 D/F, Dye Residue 등을 빠르게 분해 제거하여 장비를 최적의 상태로 Conditioning 합니다.
AC-920/AC-920N은 Resist Developing 및 stripping 장비의 Cleaning을 위하여 개발된 고농축 Cleaner로, 고착된 D/F, Dye resisdue등을 빠르게 분해, 제거하여 장비를 최적의 상태로 conditioning 할 수 있습니다. AC-920/AC-920N(중화제)의 주기적인 사용을 통하여 장비의 효율적인 관리 및 현상 품질에 안전성을 유지할 수 있습니다.
