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황산 및 과산화수소, 안정제를 일정한 비율로 혼합하여 만든 일액형 Type의 Etching System으로 Copper표면에 균일한 조도를 형성함과 동시에 접착강도를 향상시켜 Copper표면과 Photo Resist Layer간의 접착력을 향상 시키는 제품입니다.
고밀도 PCB회로 공정의 seed Layer제거 전용약품(base copper etching)으로 일액형, 안정제 타입으로 공정환경에 맞게 선택이 가능하며 안정적인 약품관리로 공정운영에 효과적이며, inhibitor기능이 첨가된 기능성 약품이다.
H₂SO₄ / H₂O₂의 etching solution에 효과를 향상시키기 위한 목적으로 개발된 안정제
H₂SO₄ / H₂O₂ type 의 미세 조직(고조도) 구현 목적으로 개발된 Copper Etchant (Micro Etchant)
Fine pattern용 package,HDI,반도체PCB 공정에 사용되며, Cu합금소재 표면 처리용으로 월등한 성능을 발휘한다.
황산,과수 타입으로 안정적으로 5~10미크론을 에칭시킬 수 있습니다.
Cu-합금소제에 전처리 약품으로 적용